제 25회 반도체 대전 SEDEX
October 25 ~ 27 / COEX SEOUL
Kairospace Co., Ltd.
Booth No.C022EUV(극자외선) 광학 시스템
EUV 광학 시스템은 저출력 EUV(극자외선) 레이저로 반도체를 검수하는 장비입니다. 이 시스템은 반도체 웨이퍼의 수율을 높이는데 기여합니다. 높은 NA(numerical aperture)로 작은 반도체 크기에 맞는 해상도로 검수하며 이는 미래에 5~1 nm 정도의 극미세 회로 반도체를 검사하는데 적합합니다.
EUV(극자외선) 미러
카이로스페이스는
다층 코팅에 관련된 솔루션을 제공합니다. 다층 코팅된 미러는 65% 이상의
EUV 반사율을 보이며 매우 정밀한 polishing 그리고
특수 코팅 기술이 적용됩니다.
블랙 코팅 (EUV)
카이로스페이스는
화학 증착 기법을 기반으로 빛 흡수 블랙 코팅을 제공합니다. 이 특수 코팅은 극자외선, 자외선, 가시관선, 그리고
적외선 등을 흡수하는데 효과적입니다. 빛 흡수 테이프, 차폐경, 적외선 센서 부품, 열감지/적외선
카메라, 그리고 열 센서의 방사능 차폐막 등에 사용됩니다.
EUV optical system
EUV optical system is an equipment to
review and inspect with low power EUV laser beam optical system. This system is
to proofread semiconductor wafer to increase yield in production process. With
high NA (Numerical Aperture), our optical head can achieve high resolution to
identify small size of wafer. It will enable to inspect the smaller size of
wafer even for 5 and 1 nm size of semiconductor circuit.
EUV mirror
With multilayer coatings to achieve
reflectivity of EUV, KAIROSPACE developed full cycle technologies to
manufacture. Our EUV mirror technology accomplished more than 65% reflectivity,
ultra-high accuracy in polishing, and special coating.
Black coating (EUV)
We developed light-absorbing Black coatings
based on chemical deposition technologies. It can be used in internal parts of
optical systems, EUV, UV, Visible, and IR light-absorbing tapes, baffles, cold
shields and other IR detectors parts, parts for thermographic cameras, night
vision systems, radiation absorbing layers for temperature sensors.
카이로스페이스는 심우주 탐사기술을 기반으로, 반도체 제4공정의 검사 및 측정 장비용 광학시스템을 제공합니다.
심우주의 극한 환경의 광학시스템 개발
경험과 전문성을 바탕으로 우리는 극자외선(EUV light) lithography 공정의 웨이퍼 검사, 펠리클 검사, 마스크 검사, 포토레지스트
검사 등에 필요한 다양한 검사장비의 맞춤형 광학시스템을 제공합니다.
현재 당사는 극자외선 미러 코팅 솔루션과 광학 성능, 반사율 및 흡수율이 뛰어난 Black coating 솔루션, 그리고 맞춤형 극자외선용 광학 카메라 솔루션을 국내시장에 제공하고 있습니다.
KAIROSPACE is a private space industry
company providing the optical system to review and inspect 4th process of
semiconductor production with deep space exploration technology.
We provide optimal optical system for
various inspection equipment such as wafer, pellicle, mask, and photoresist review
in EUV light lithography, to which accumulated experience and expertise in extreme
condition of deep space are applied.
We provide EUV mirror coating solution with
high optical performance and reflectivity. Moreover, we suffice domestic market
with black coating and appropriate EUV optical camera solution currently.
날짜/시간 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
10월 25일 | |||||||
10월 26일 | |||||||
10월 27일 |